学　术

　　由物理学院主办的“物理论坛”邀请到日本国立物质材料研究所（NIMS）王勇博士来校交流，具体安排如下，欢迎感兴趣的师生参加。

　　一、主　题：Controllable growth, microstructure and electronic structure of Cu-O thin films

　　二、时　间：2019年8月6日（周二）10:00

　　三、地　点：沙河校区物理楼204会议室

　　四、主讲人：日本国立物质材料研究所　王勇 博士

　　五、主持人：物理学院 乔梁 教授

　　六、内容简介：

　　Prospective applications in the fields of energy conversion and thin film transistor raise great interests in p-type binary semiconductor copper oxides, due to their peculiar electrical and/or optical properties. In this talk, I will present the controllable growth, microstructure and electronic structure of copper oxide thin films, including cuprous Cu2O, cupric CuO and the metastable mixed-valence oxide paramelaconite Cu4O3. These three phases have been deposited on unmatched substrates by reactive sputtering at room temperature . Local epitaxial growth, where epitaxial relationship exists in columns of sputtered films, has been observed in Cu2O and Cu4O3 films by using a seed layer. The seed layer will govern the growth orientation of top layer via the local epitaxy, independently of the deposition conditions of top layer . The unusual vertically aligned columnar microstructures of biphase thin films is evidenced. Besides, a joint experimental and theoretical study is performed for the electronic structure of copper oxides, which gives a consistent picture for the optical and band-structure properties of the three oxides . Finally, the chemical states of nitrogen impurities in oxides will be discussed.

　　七、主讲人简介：

　　王勇，湖南衡阳人，工学博士；在欧盟Erasmus博士奖学金的支持下，于2016年3月获得法国洛林大学和德国萨尔大学联合培养工学博士学位，2016年7月至2017年12月工作于西南科技大学环境友好能源材料省部共建国家重点实验室，2018年3月加入日本国立物质材料研究所（NIMS）国际青年科学家中心（ICYS）开展独立研究。长期从事反应磁控溅射制备薄膜的生长机制、半导体薄膜材料的光电性能和电子结构以及薄膜型热流传感器的研究，在溅射薄膜的局域外延生长和原子层热电堆热流传感器等领域取得了一些原创性的结果，获得了第19界（2013年）世界真空学大会优秀学生奖，2014年欧洲材联春季会议获得优秀墙报奖，2015年度中国政府优秀自费留学生奖，2017德意志学术交流基金（DAAD）奖学金。目前主持自然科学基金青年基金、中国工程物理研究院科技发展基金和企业委托项目等多项课题。

　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　  物理学院

　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 2019年8月5日